基于XILINX的28nm从三重氧化物到HIGH-K详细分析与前景
近10年来，当集成电路进入亚微米阶段，当人们享受到摩尔定律带来的好处时， 一朵乌云，一直笼罩在集成电路业界的上空，就是越来越严重的跑冒滴漏现象。 作为集成电路的最基本组成单元，晶体管，当尺寸越来越小的时候，漏电缺越来越严重，不仅传统漏电的地方漏，本来不该漏电的地方也开始从涓涓细流满满发展成波涛汹涌。 就像上图的那个漏水的水龙头。
刚开始，漏水的地方主要是出水口和进水口直接的部分， 因为水流主要在这里流动。 慢慢地，水龙头越来做越小，人们发现，主要的漏水的地方从原来的进水口和出水口出，移到了中间用来拧紧水龙头的部分。哪怕你不经常开关水龙头，可这个地方会持续不断地渗水。 如果拆开水龙头来看，出毛病的地方通常是一个橡胶作的皮垫。水龙头尺寸做小了以后，皮垫的尺寸跟着缩小，以至于太薄，水直接从皮垫渗出。 就像这张图：
多垫皮垫解决漏水问题
皮垫太薄导致漏水解决办法是什么？简单，多垫几层皮垫，一层不够两层，两层不够三层。 这样，中间漏水的问题就可以暂时解决了。
用来进行栅极绝缘的绝缘层，一般是用二氧化硅做的，相当于水龙头中的皮垫， 通常只需要一层。 但是，赛灵思的Virtex-2, 用了两层氧化物。从90nm开始赛灵思的Virtex-4，65nm Virtex-5，40nm Virtex-6，都采用了三重氧化物栅极的工艺，降低漏电流，从而达到降低静态功耗的目的， 三重氧化物栅极长得是这个样子滴：
当然，皮垫垫多了，跑冒滴漏解决了一些，可是开关起来肯定不够灵活，因此，这种工艺只是在非关键区域使用，比如用于配置FPGA的地方。 真正需要高速的区域，还是采用一层氧化物工艺。 因此 Virtex-2, 4,5, 6 尽管在降低功耗上做得很出色，可和精心设计的ASIC比，仍然有差距。 毕竟那么多闲置的资源在那里，每个跑冒滴漏一点，数千万个加到一起，就不是小数字。
