专题-3: Unit Process–RCA清洗 （转）

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本文转自芯苑，ic-garden.cn （由于芯苑会经常关闭站点，故转载存留） 

编者按：得益于刚毕业时候在方正遇到第一位副总David_Lin (林大野), 他是一位有修养很博学的人，毕生钻研清洗，每次和我聊天都聊清洗，为了和他有话题也让他觉得我有在好好学，我几乎通读了所有清洗的材料。这是我学的最多的一道process，今天花了一天时间翻遍当年的记忆，整理出这份材料给各位还在学习的半导体朋友们，起码你们能知道这些名字怎么来的？why APM or SC1?

摩尔定律一直像一道魔咒一样，无情的鞭笞着我们每一个半导体人，一次又一次觉得绝望了，又一次次被突破了。然而，摩尔定律不是只有黄光一个人的事，另外一个不得不提又是特别关键的制程便是清洗。不然你线宽做的再小，wafer上一堆particle/颗粒，又有何用？很多时候，洗不洗的干净真的很难恒定，就感觉像中国人洗水果一样，农药残留你怎么衡量？没办法，只能洗洗更健康吧。

说起半导体的清洗，不得不说说RCA公司，这家公司有两个牛人Kern和Puotinen，在1965年发明了SC1和SC2，1970年公布专利。一直到现在我们的process flow里依然有SC1和SC2 clean，因为专利关系，他们就直接命名标准1号液和标准2号液。当然学术上，也叫APM(Ammonia/Peroxide Mix)和HPM (Hydrochloric/Peroxide Mix)，因为配比的化学液的组合而得名。不知道什么时候半导体清洗能够革命性变化一次，让RCA公司的那两个神话人物变成历史。