2021年1月 - 智于博客

当前位置：首页 > 2021年1月

炉管(Furnace)设备工艺经验8年笔记

博主2021-01-30半导体技术精帖264310

炉管(Furnace)设备工艺经验8年笔记

...

Implant SIMS笔记(离子注入机二次离子质谱笔记)

小蜜蜂2021-01-24半导体技术资料69990

Implant SIMS笔记(离子注入机二次离子质谱笔记)

首先，我们来看下什么是SIMS？技术原理（https://w...

LPCVD多晶硅（Poly）的形貌和显微结构研究

博主2021-01-17半导体技术资料74330

LPCVD多晶硅（Poly）的形貌和显微结构研究

研究了低压化学气相沉积（LPCVD）多晶硅薄膜的形貌和微观结构与沉积条件的关系。 &nbs...

关于碳化硅SiC栅氧（Gate Oxide）以及NO 退火

博主2021-01-16半导体技术资料52140

关于碳化硅SiC栅氧（Gate Oxide）以及NO 退火

1. Introduction 我们生活在一个能源匮乏的世界，在这个世界上，工业化和全球化已经成为一种趋势加速了对资源的需求，现在大约每40年翻一番...

理解微电子中的FinFET结构

博主2021-01-02半导体技术资料27960

...